工作职责
1.光刻工艺条件开发,保障光刻测试稳定性;
2.对光刻测试的异常可以独立分析,保障测试结果的可靠性;
3.能够独立完成测试报告,并且对测试数据进行分析,得出结论;
4.进行光刻工艺改善,对研发部门给出改善建议,推进研发进度;
5.参与光刻设备维护,调试,按时移交满足产能需求。
能力要求
1.掌握NIKON,CANON,ASML的Krf系列曝光设备操作方法;
2.掌握突觉显影剂Lithius及以上型号的设备操作方法及程序编辑;
3.掌握日立HITCHAI系列CDSEM使用方法;
4.了解膜厚仪的测量,了解光刻胶切片设备;
5.具有良好的沟通能力,团队合作精神。
任职资格
1.具有2年以上光刻工艺经验-FAB工作经验优先;
2.本科及以上学历,化学/微电子/光学等相关专业。
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